<strong id="s34ho"></strong>

    1. <form id="s34ho"><tr id="s34ho"></tr></form>
    2. <dd id="s34ho"><center id="s34ho"></center></dd>

        1. <em id="s34ho"><acronym id="s34ho"></acronym></em>

          CVD化學氣相沉積

          Chemical Vapor Deposition


          金剛石(Diamand),常稱鉆石,其性能優異,應用廣泛。

          人造金剛石技術包括高溫高壓(HTHP)法和化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition 簡稱CVD)法。


               CVD金剛石沉積方法包括:熱絲 CVD 法(Hot Filament CVD,簡稱HFCVD)、

                          微波等離子體 CVD 法(MWPCVD)、

                                  直流等離子體噴射 CVD 法(DCPJCVD) 等。

               MWPCVD法設備復雜,成本高,尺寸受限,

          但其膜層質量優異,一般為透明色,

          主要應用于光學、電子、人造鉆石等高端領域。        

               HFCVD法由于設備較簡單、成本較低廉、可進行大規模工業化生產,

          其膜層質量一般,呈黑色,主要應用其硬度及耐磨性。


                    鉆科技具有HFCVD和MWPCVD兩種制備設備,并熟練掌握其制備技術。


          image.png



          采用熱絲CVD(即HFCVD)設備制備金剛石涂層產品,

          其方法是采用金屬絲作為熱源,通入活性氣體,

          在真空條件下當熱絲溫度達到2000℃左右時,

          含氫氣體在高溫下發生熱分解,

          在工件基底上先沉積生長一層微米晶金剛石,增強膜層和基底結合力,

          然后繼續沉積生長一層納米晶金剛石,改善圖層表面結構,降低表面粗糙度。



          在線
          客服

          在線客服服務時間(上午):9:00-12:00服務時間(下午):13:00-17:00

          選擇相關服務在線溝通:

          客服
          熱線

          13570315016
          5*8小時客服服務熱線

          關注
          微信

          關注官方微信
          頂部
          国产精品 视频一区 视频二区
          <strong id="s34ho"></strong>

          1. <form id="s34ho"><tr id="s34ho"></tr></form>
          2. <dd id="s34ho"><center id="s34ho"></center></dd>

              1. <em id="s34ho"><acronym id="s34ho"></acronym></em>